污水综合处置

Aquarius氧化&高级氧化

Aquarius+高浓度废水光化学氧化技术(UV+H2O2体系)

Aquarius+技术介绍

一个分子要产生光反应(紫外氧化)的前提是这个分子对光的吸收(Calvert & Pitts, 1966)。 对光的吸收量A (入)由Lambert-Beer定律来计算,其中I (0)表示进入溶液之前的光强度,表示离开溶液后的光强度。光吸收量A (入)对分子浓度C、层厚度d和消光系数£ (入)呈线性关系。

当R分子吸收到富含足够能量的光线时,将转化为更高能量级别的激发态R*分子,它所增加的能量和输入的光子能量相当。基本上每一种光响应(紫外氧化)都以此种光吸收为先决条件。这意味着,如果紫外反应器的构造合理,很暗的或者光透过性极差的溶液将更适合于使用紫外氧化的工艺来处理。

在氧化剂的存在下,进一步增加了不同的反应途径:

例如过氧化氢(H2O2)在适当波长的照射下会被光解为高活性的羟基自由基,他们可以与水中的有 机和无机物质快速反应(LAMING et al.1969, BAXTON und WILMARTH 1963, HOCHNADEL1962)。

Aquarius+技术应用于高浓度污水有机物转化曲线

Aquarius+技术的实际应用

Aquarius+技术的应用

Aquarius高级氧化深度处理技术(UV/H2O2/03体系)

高级氧化产生的·OH是引发有机物降解的中间产物,相应反应速率常数通常在10^8-1010mol-1.LS-1。与UV/03过程相比,由于H2O2的加入对·OH的产生有协同作用,对有机污染物的降解率更高,反应速率也更大。对于复杂水体,某些·OH生成反应可能受抑制。在这种情况下,UV/H202/03系统就显出了优越性,因为它可能通过多种反应机理产生·OH。UV/H202/03系统受有色及浓浊废水的影响程度较低,且适用于更广的pH值范围。

Aquarius高级氧化深度处理技术模型


Aquarius深度处理高级氧化技术(UV/H2O2/03体系)

Aquarius高级氧化深度处理技术应用范围

1)市政或工业园区污水处理厂提标,将COD由60mg/L降低至50mg/L或30mg/L。

2)污水处理厂COD降解,用于生化工艺段后端,将COD从150mg/L降50mg/L或30mg/L以下。

3)高浓度废水预氧化。

Aquarius中高浓度废水高级氧化技术(Photo-Fenton体系)

Photo-Fenton法也叫光助Fenton法,是普通Fenton法与UV/H2O2两种系统的复合,与该两种系统相比,其优点在于降低了Fe²+用量,提高了H2O2

的利用率。在Fenton体系中引入紫外线,Photo-Fenton体系中的Fe³+与氢氧根离子的复合离子在UV照射下产生·OH和Fe²+,同时体系中过量的H2O2在高剂量UV照射下,分解为·OH,提高了氧化剂利用率同时降低污泥产生量。


Photo-Fenton体系反应机理示意图

Photo-Fenton优势

1)原有Fenton体系提质增效,增强高级氧化效果,减少铁泥含量。氧化效率可比

常规Fenton体系高20%-50%,铁泥减少约60%以上。

2)中高浓度污水处理的Photo-Fenton高级氧化。